日本HOYA（豪雅）

掩膜版光刻机（又称掩模对准曝光机）是芯片制造的核心设备，其工作原理类似照片冲印技术，通过光线将掩膜版上的精细图形转移至涂覆光刻胶的硅片表面‌。传统设备依赖物理掩膜版，而新型多功能光刻机引入数字DMD技术，通过计算机控制微镜转角动态生成光刻图案，实现无掩膜曝光‌
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核心功能与技术特点

1. ‌双重曝光模式‌：支持传统掩膜版曝光与无掩膜直写，满足不同制程需求。例如，7nm芯片需通过N+2多重曝光技术（单次曝光对应1套掩膜版，4次曝光使掩膜版用量提升3-4倍）‌
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2. ‌高精度图形转移‌：采用缩小4-10倍的投影光学系统，掩膜版缺陷率要求达“0缺陷”（如14nm PSM掩膜版缺陷容忍度<0.1个/平方厘米）‌。

3. ‌灵活性与成本优势‌：DMD无掩膜技术可快速调整设计图案，节省掩膜制作成本和时间，尤其适合研发和小批量生产‌
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